レジスト現像液

Product

DFR

PSR

PAMプロセスA/B

シリーズ

アルカリ可溶型DFR、DIDFR、PSRの現像処理に使用できます!

用途・目的

レジスト現像管理システム専用アルカリ型現像液。
※槽汚染に起因する不具合改善に適しています。

製品の特長

□現像時の槽内に発生する固化物や不溶性生成物(スカム)の不具合を抑制できます。
□従来設備でそのまま御使用頂け、ライン条件等の変更の必要はありません。

適応及び推奨工程

レジスト現像処理工程

番定・製品名・用途・特性

□ PAMプロセスシリーズ
製品名 適応用途 化学的特性 荷姿入目
PAMプロセスA レジスト現像液 液体/アルカリ性 ロンテナ20kg
PAMプロセスB 希釈使用する補給槽用補充剤 濃縮液体/中性 ロンテナ10kg/ロンテナ20kg
PAMプロセスA/B
炭酸ソーダ
現像したい
レジスト現像液
除去したい
レジスト除去剤
凸凹にしたい
粗化剤
発泡を抑えたい
消泡剤 分散剤
剥がしたい
剥離剤
洗浄したい
槽洗浄剤

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